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正常步态理解正常步态模式和特征是判断步态正常与否的前提，接下来我们介绍有关步态的一些基本概念。一、步行周期步行周期是指行走过程中一侧足跟着地至该侧足跟再次着地所经过的时间。每一侧下肢有各自的步行周期。每一个步行周期分为站立相和迈步相两个阶段。站立相又称作支撑相，为足底和地面接触的时期；迈步相有称作摆动相，指支撑腿离开地面向前摆动的阶段。站立相大约占步行周期的60%，迈步相占40%。二、正常步行周期的基本构成（一）双支撑期和单支撑期一侧足跟着地至对侧足趾离地前有一段双腿与地面同时接触的时期，称为双支撑期。每一个步行周期包含两个双支撑期。有一条腿与地面接触称为单支撑期，这个阶段以对侧的足跟着地为标志结束。行走时一侧腿的单支撑期完全等于对侧腿的迈步相时间。每一个步行周期中，包含了两个单支撑期，分别为左下肢和右下肢的单支撑期，各站40%的步行周期时间。常用的步态分期方法有两种。投标足压系统
足底筋膜的作用保护足底组织提供足底某些内在肌的附着点协助维持足弓足跟脂肪垫跟骨脂肪垫对后足有重要的缓冲作用。Teitze在1921年***描述其解剖结构为蜂巢状的纤维弹性隔，其中充满了脂肪颗粒。这种脂肪垫的封闭小腔结构为其吸收冲击力提供了完善的机制。跟骨结节周围的纤维隔呈U形结构连接跟骨与皮肤。横形及斜形的弹力纤维分隔脂肪形成间隔以增加纤维隔的强度。足底筋膜（跖腱膜）的受力模型跖腱膜相对缺乏弹性。在步态周期站立相中，当足趾背伸时，沿着跖腱膜的张力增加，拉力传导至其跟骨起点，这种负荷传递使足纵弓抬高，被称作“卷扬机”效应。此外，腓肠肌-比目鱼肌复合体同时牵拉并在前足集中额外的体重，而身体向下方的加速度会使地面的反作“卷扬机”效应下的重复运动，用力增加20%。投标足压研究"步态分析"研究中的应用及进展足底压力测量技术应用于步态研究已成为生物力学代表性的研究方向。
股神经损伤时可致股四头肌无力，屈髋、伸膝活动受限。行走时，由于股四头肌无力，不能维持膝关节的稳定性，支撑相膝后伸，躯干前倾，重力线落在膝前。如果伸膝过度，有发生膝后关节囊和韧带损伤的危险，可导致膝关节损伤和疼痛。
腓深神经损伤时，胫前肌无力，可致足背屈、内翻受限，其特征性的临床表现是早期足跟着地之后不久“拍地”，这是由于在正常足跟着地之后，踝背屈肌不能进行有效的离心性收缩控制踝跖屈的速率所致。行走时，由于胫前肌无力使足下垂，摆动相足不能背屈，以过度屈髋、屈膝，提起患腿，完成摆动（跨槛步态）。整个行走过程身体左右摆动、骨盆侧位移动幅度增大。由于足下垂拖地，患者亦有跌倒的危险。
鞋垫式压力监测器：鞋垫式压力监测器是一种可以直接放入鞋内的设备，它可以实时监测穿鞋者的足底压力分布和受力情况。这种设备通常用于运动和康复领域。智能鞋垫：智能鞋垫是一种集成了多种传感器和技术的鞋垫，它可以监测足底压力、温度、湿度等多种参数，并提供个性化的健康建议。这种设备适合日常穿着使用。智能鞋：智能鞋是一种集成了多种传感器和技术的鞋子，它可以监测步态、足底压力等多种参数，并提供个性化的健康建议。这种设备适合运动爱好者使用。三、未来展望随着科技的不断发展，身体足压设备的功能和应用场景也在不断拓展。未来，我们可以期待更加智能化、个性化的身体足压设备出现，为人们的健康提供更加的保障。同时，随着人们对健康的关注度不断提高，身体足压设备的应用也将更加。足底压力分析就像给脚做了一次X光体检，只不过它看的不是骨头，而是‘隐形脚印。
痉挛型患者常见小腿三头肌和胫后肌痉挛导致足下垂和足内翻，股内收肌痉挛导致摆动相足偏向内侧，表现为踮足剪刀步态。严重的内收肌痉挛和腘绳肌痉挛（挛缩）可代偿性表现为髋屈曲、膝屈曲和外翻、足外翻为特征的蹲伏步态。共济失调型因肌张力不稳定，步行时通常通过增加足间距来增加支撑相稳定性，通过增加步频来控制躯干的前后稳定性，通过上身和上肢摆动的协助，来保持步行时的平衡，因此在整体上表现为快速而不稳定的步态，类似于醉汉的行走姿态。利用光纤传感器或3D光学扫描技术，非接触式捕捉足底压力，避免传统传感器的磨损问题。三维成像足压怎么样
多学科融合：结合生物力学、材料学与AI优化解决方案。投标足压系统
针对部分足踝疾病的患者，为了促进患者尽快恢复，需要对其进行足底压力测试操作，而随着科技的不断发展，智能化应用的不断普及，将智能化应用到测试鞋垫上来对患者进行足底压力测试能够给医护人员和患者均带来便利，但是常规的智能足底压力测试鞋垫在使用时，其上的压力传感器均安装在鞋垫的表面，影响患者脚掌的舒适度，同时也不利于对鞋垫的表面进行清理。智能足底压力测试鞋垫，包括鞋垫主体，所述鞋垫主体的表面设有多个正对脚底受力部位的受力区，所述受力区的表面设有受压凸起，所述受压凸起与所述鞋垫主体为一体成型结构，所述鞋垫主体的内部正对受力区的位置设有环形槽，所述环形槽内设有柔性薄膜压力传感器，所述柔性薄膜压力传感器上还设有外侧保护装置，所述外侧保护装置包括设置在所述环形槽内的保护套膜，所述保护套膜的内部设有存放腔室，所述柔性薄膜压力传感器位于所述存放腔室内。投标足压系统
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